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BTX™ ECM™ 630 High Throughput Electroporation System, 96-well with HT-200
ECM™ 630 High Throughput Electroporation System, 96-well with HT-200 is ideal for efficient transformation of bacteria, yeast and other microorganisms.
Marke: BTX™ 45-0658
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Beschreibung
- Wide and accurate voltage, capacitance, and internal resistance settings
- Preset protocols for common bacteria, yeast, and microorganism types
- Unlimited ability to add and modify user defined protocols
- Data logs of delivered pulses and sample resistance for QC and troubleshooting
- Simple to use large 7 inch touchscreen interface
- Multiple Exponential Decay pulsing capabilities
- Connection Type: Positive and Negative 4 mm Banana Cables
- Includes: ECM™ 630 Generator, Cuvette Safety Dome, Cuvettes (10 Ea. of 1 mm, 2 mm, 4 mm), Cuvette Rack 660, 2 x 96-well Plates (2 mm gap), Plate Seals, HT-200 Automatic Plate Handler and Plate Adaptor
- IQ/OQ available on request, qualification performed in cuvettes
Spezifikation
Transformation von Bakterien, Hefe, Mikroorganismen; Transfektion einiger Säugetierzellarten | |
50/60 Hz | |
Elektroporator | |
Von 505 bis 3000 V (in 5 V-Schritten) | |
Farb-Touchscreen | |
8,5 in. | |
12,75 in. | |
32.4 cm | |
40 bis 104 °F | |
Exponentielle Abklingkurven-Zeitkonstante 0,5 bis 133,875 ms | |
Max. 80 % bei Betrieb bei 25 °C | |
16 lb. | |
11,3 in. | |
100 bis 240 V AC | |
10, 25, 35, 50, 60, 75, 85 μF | |
Bananenkabel | |
Touchscreen-Display, Fußschalter, Remote | |
Ja |
Küvetten-Sicherheitshaube, Küvetten-Sicherheitsständer, HT-100 Elektroporationsplatten-Handler mit hohem Durchsatz, HT-200 Automatischer Elektroporationsplatten-Handler | |
BTX-Elektroporation | |
5 bis 3000 V | |
Von 5 bis 500 V (in 1 V-Schritten) | |
CE-Kennzeichnung, ETL-Kennzeichnung (UL, CSA), CB-Schema, EU RoHS, WEEE | |
21.5 cm | |
Positiv und Negativ | |
Generator, Küvetten-Sicherheitshaube, Küvetten, Küvettengestell, 96-Well-Platten, Plattenversiegelungen, HT-200 automatischer Plattenhandler, Plattenadapter | |
1 bis 2 Impulse/Probe | |
4°bis 40 °C | |
35 W (Leerlauf), 350 W (pulsierend) | |
7.3 kg | |
28.6 cm | |
Unsteril | |
25 bis 3275 μF (in 25 μF-Schritten) | |
< 7 Sekunden (LV), < 4 s (HV) | |
Exponentielle Abklingkurve |